UV光氧催化工作原理描述
    特制UV紫外线灯：利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气，裂解工业废气如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等。利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。?UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。工业废气利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应，使工业废气物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。利用高能-C光束裂解工业废气中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到净化及杀灭细菌的目的．从净化空气效率考虑，我们选择了-C波段紫外线和臭氧发结合电晕电流较高化装置采用脉冲电晕放吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除，其中-C波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷、树脂等气体的分解和裂变，使有机物变为无机化合物。
    光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用,光催化氧化反应是半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O。采用的半导体目前反应效率最高的是纳米TiO2光催化剂。在光催化氧化反应中，通过紫外光照射在纳米TiO2光催化剂上产生电子空穴对，与表面吸附的水份（H2O）和氧气（O2）反应生成氧化性很活波的氢氧自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-）。能够把各种废臭气体如醛类、苯类、氨类、胺类、酚类、氮氧化物、硫化物、及其它VOC类有机物在光催化氧化的作用下还原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它无毒无害物质，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂，所以不会产生二次污染。
    UV光催化设备的特点：
1、UV光催化设备可根据风量及气体浓度的大小，进行灵活配置，采用抽屉式插拔安装形式，配件统一，安装及维护方便。备件可在线维护和更换，方便灵活。
2、UV光催化设备可适应于绝大部分高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，通过合理的模块配置可广泛应用于：炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾中转站、污水泵房、中央空调等恶臭气体的脱臭灭菌净化处理。可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
3、UV光催化设备无任何机械装置，无运动噪音，无需专人管理和日常维护，只需要作定期检查维护，维护和能耗成本低，风阻极低，可节约大量排风动力能耗，达到节能的目的。
4、UV光催化设备能高效去除挥发性有机物、硫化氢、氨气等无机物类污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达99%以上，脱臭效果大大优于国家颁布的恶臭污染物排放标准(GB14554-93)
5、UV光催化设备无需恶臭气体进行特殊的预处理，如加温、加湿等，设备工作环境温度在-30度~95度之间，湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作，无需添加其他物质及药剂参与处理。
6、UV光催化设备采用光解原理，采取了隔爆处理，消除了安全隐患、防火、防爆、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，特别适用于高浓度易燃易爆废气的场合。